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从3微米到5纳米一图看台积电建立33年来的工艺演进

2020-01-22 02:44:36  阅读:5691+ 作者:责任编辑NO。许安怡0216

1月21日音讯,据国外新闻媒体报道,为苹果、华为等公司代工芯片的台积电,近几年在芯片工艺方面走在职业的前列,已接连4年独享苹果的A系列芯片大单,本年估计还会持续。

台积电可以接连4年独享苹果的大单,靠的是业界抢先的工艺,而台积电也在官网,发表了他们自成立以来的工艺演进。

台积电芯片工艺演进图

从台积电官网所发布的信息来看,在1987年景立时,他们的芯片工艺是3微米,随后逐渐提高,在1990年提高到了1微米;2001年的时分提高到了0.13微米,也便是130纳米;2004年开端选用90纳米工艺;随后是65纳米、45纳米、40纳米、28纳米、20纳米,2015年提高到了16纳米;2016年升至10纳米;2017年是7nm;5nm也已在上一年危险出产,将在本年上半年开端大规模量产。

除了图中列出来的工艺,台积电也在研制更先进的3nm工艺,在四季度的财报分析师电话会议上,台积电CEO魏哲家透露在4月29日举办的台积电北美技能研讨会期间,将发表更多3nm工艺的细节信息。

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